無掩膜光刻機
無掩膜光刻機 澤攸科技無掩模光刻機是一種先進的光刻技術設備，它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形，而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光，形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。
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無掩膜光刻機 澤攸科技無掩模光刻機是一種先進的光刻技術設備，它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形，而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光，形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。
