等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
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多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
目前項目團隊自主研發的CVD設備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導體表面）直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發。工藝簡單廉價，且具有傳統半導體生長工藝的兼容性。
以上就是安徽澤攸科技有限公司為您介紹的等離子體增強化學氣相沉積系統CVD產品，如果想要了解更多產品信息請咨詢15756003283（微信同號）
