在掃描電鏡（SEM, Scanning Electron Microscope）成像過程中，樣品上的污染物會(huì)嚴(yán)重影響成像質(zhì)量和分析結(jié)果。污染物可能來自樣品制備過程、環(huán)境灰塵、油脂、殘留溶劑，甚至是電子束輻照引起的碳污染。以下是有效的去除方法和建議：

 1. 物理清潔法

超聲波清洗（Ultrasonic Cleaning）適用對(duì)象： 金屬、陶瓷等硬質(zhì)材料，不適用于易碎或多孔材料。

操作方法：將樣品浸入適當(dāng)?shù)娜軇ㄈ鐭o水乙醇、丙酮或去離子水）。

使用超聲波清洗機(jī)，清洗1-5分鐘，防止時(shí)間過長(zhǎng)導(dǎo)致表面損傷。

優(yōu)點(diǎn)： 有效去除微粒、油脂和部分有機(jī)污染物。

注意： 多孔或柔軟樣品可能被損傷或吸水。

低壓等離子清洗（Plasma Cleaning）適用對(duì)象： 絕大部分樣品，尤其是去除碳污染和有機(jī)物。

操作方法：使用氬氣（Ar）或氧氣（O?）等離子，處理2-10分鐘。

氬等離子：去除表面物理污染物。

氧等離子：氧化有機(jī)污染物，轉(zhuǎn)化為氣體揮發(fā)掉。

優(yōu)點(diǎn)： 不改變樣品表面形貌，適合敏感樣品。

注意： 氧等離子可能氧化某些金屬樣品（如銅、鋁）。

吹拂與刷拭（Air Blowing and Brushing）適用對(duì)象： 顆粒污染物較多的樣品。

操作方法：使用無油高純氮?dú)獯捣鳎苊鈮嚎s空氣帶來的油脂污染。

柔軟的羊毛刷輕輕刷拭表面顆粒。

優(yōu)點(diǎn)： 簡(jiǎn)單快速，適合顆粒污染物。

注意： 不適合細(xì)微污染物或油脂類污染。

2. 化學(xué)清潔法

有機(jī)溶劑清洗（Organic Solvent Cleaning）適用對(duì)象： 去除油脂、指紋和有機(jī)污染物。

常用溶劑： 丙酮、無水乙醇、異丙醇。

操作方法：將樣品浸泡在溶劑中數(shù)分鐘，輕輕晃動(dòng)或用超聲波輔助。

用無塵布或?yàn)V紙擦拭后，自然晾干或用氮?dú)獯蹈伞?/span>

注意： 部分材料（如塑料或某些薄膜）可能被溶劑溶解或損傷。

酸堿清洗（Acid or Alkali Cleaning）適用對(duì)象： 金屬氧化物、銹跡或其他無機(jī)污染物。

常用溶液：稀鹽酸或硝酸：去除金屬氧化物。

氫氧化鈉（NaOH）：去除有機(jī)酸污染。

操作方法：浸泡時(shí)間控制在幾秒到幾分鐘，隨后用去離子水沖洗干凈。

用乙醇快速脫水，再用氮?dú)獯蹈伞?/span>

注意： 酸堿處理可能腐蝕樣品，需謹(jǐn)慎。

3. 電子束污染處理（Beam-Induced Contamination）

低電壓預(yù)處理（Low Voltage Pre-Treatment）問題： 電子束會(huì)引發(fā)碳污染，尤其在高電流條件下。

解決方法：先用低電壓（如1-2 kV）掃描，去除表面吸附的污染物。

然后再逐步升高電壓進(jìn)行正式成像。

周期性等離子清洗（Regular Plasma Cleaning）問題： 長(zhǎng)時(shí)間使用后，腔室內(nèi)可能累積碳污染。

解決方法：定期使用氧等離子清洗SEM腔室，減少污染來源。

頻率視使用情況而定（如每月一次）。

以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡樣品的污染物如何去除。更多掃描電鏡產(chǎn)品及價(jià)格請(qǐng)咨詢15756003283(微信同號(hào))。