掃描電鏡（SEM）的聚焦系統主要通過調整電子透鏡的電場來實現。這個系統包括一組電磁透鏡，用于聚焦電子束，使其能夠在樣品表面形成清晰的圖像。

聚焦系統的工作原理如下：

電子源： SEM中通常使用熱陰極或場發射電子源產生電子。這些電子被加速并形成初級電子束。

透鏡系統： 初級電子束經過一系列的電磁透鏡，其中包括減焦透鏡和聚焦透鏡。這些透鏡通過調整電場的強度和方向來聚焦電子束。

樣品： 聚焦后的電子束照射到樣品表面，與樣品發生相互作用。

二次電子發射： 樣品表面的相互作用導致二次電子的發射。這些二次電子被收集用于形成圖像。

樣品與聚焦系統之間的距離影響聚焦的效果，主要體現在焦距上。焦距是指從透鏡到樣品表面的距離。在SEM中，通常可以通過調整樣品的高度來改變焦距。這對于獲得清晰的圖像是至關重要的。

在一般情況下，當樣品與透鏡系統之間的距離適當時，可以獲得高質量的聚焦效果。如果樣品太靠近透鏡系統，可能導致透鏡系統無法正確聚焦電子束，從而影響圖像的清晰度。反之，如果樣品太遠離透鏡系統，電子束在到達樣品之前可能會發散，同樣影響圖像的質量。

因此，通過調整樣品與透鏡系統的距離，可以優化聚焦系統的性能，以獲得高分辨率和清晰的掃描電鏡圖像。

ZEM20臺式掃描電鏡

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